——即“离子溅射镀膜仪”。在阳极与阴极之间使用合适的气体（常用的是氩气）和电压，当出现辉光放电时，阴极材料在气体离子的轰击下将侵蚀目标材料，这个过程就叫离子溅射。其结果是溅射出来的原子（阴极材料）将在样本（通常样本固定于阳极上）表面形成一层薄膜，均匀分布在样本的表面。阴极材料通常使用金，习惯称之为金靶。如：EMS550离子溅射镀膜仪。该机具有旋转样品台，可倾斜，适合各种样品。参数可预设，全自动控制保证获得精确的镀层厚度。低电压溅射、冷溅射、精细颗粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直径为165毫米（6英寸），非常方便装载及移走样品。仪器装有60毫米直径、0.1毫米厚的金靶（可选）。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。各种功能都集中设计在仪表板上，使用方便，满足不同学科的用户使用要求。溅射参数可预设，包括气体放气针阀（此阀为电磁阀），一旦设置，就不需要再调节。溅射头互锁，系统可选配EMS250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。性能特征：复合样本固定器；旋转且可倾斜样品台；全自动控制；低耗冷却系统，无需冷却样本及样品台；低压溅射；高质量镀层厚度（2nm金膜）；均匀沉积厚度（20nm或20埃）；微电子控制；聚碳酸脂安全壳体。性能参数：1.仪器尺寸：450毫米，Wx350mm、Dx175mm·H；2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃165毫米，Diax125mm·H；3.安全钟罩：聚碳酸酯；4.重量：18公斤；5.靶：60毫米直径x0.1毫米厚（金靶为标准靶面）；6.样品台直径为60毫米，靶面距在25毫米-45毫米之间可调；7.真空范围：ATM-1x10-4mbar；8.沉积电流范围：0-50mA；9.沉积速率：0-25nm/分；10.溅射时间：0-4分钟；11.预设置针阀：控制氩；12.电源：230伏50Hz（10amp max.including Pump）?INCLUDEPICTURE \d "http://www.hedebio.com/UploadFile/2006-10/20061013101155528.jpg"???